企业信息

    深圳市旺达康科技有限公司

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  • 公司认证: 营业执照已认证
  • 企业性质:私营企业
    成立时间:2008
  • 公司地址: 广东省 深圳市 盐田区 盐田街道 东海社区 北山道149号倚山时代雅居B-4D
  • 姓名: 宋
  • 认证: 手机未认证 身份证未认证 微信已绑定

    供应分类

    国内销售电子级高**硅酸四乙酯TEOS

  • 所属行业:电子 电子材料/测量仪 半导体材料
  • 发布日期:2021-11-30
  • 阅读量:326
  • 价格:28000.00 元/件 起
  • 产品规格:8N
  • 产品数量:1000.00 件
  • 包装说明:不锈钢瓶
  • 发货地址:广东深圳盐田区盐田街道东海社区  
  • 关键词:正硅酸四乙酯

    国内销售电子级高**硅酸四乙酯TEOS详细内容

    电子级正硅酸四乙酯/ TEOS
    名称	正硅酸四乙酯(TEOS)
    化学式	C8H20O4Si
    相对分子量	208.33
    CAS号	78-10-4
    理化性质	无色透明液体,熔点-77℃,沸点168.5℃,密度0.9346g/ml。在空气中较稳定;微溶于水,在纯水中水解缓慢;在酸或碱的存在下能加速水解作用。
    主要用途 
    主要用于晶圆制造过程中的化学气相沉积(CVD)制程,用于生成二氧化硅和氮化硅薄膜。是半导体、分立器件、微机电系统(MEMS)制造所需的电子化学品。
    典型应用
    CVD类型	材料
    APCVD	TEOS,O3
    LPCVD	TEOS
    PECVD	TEOS,O2
    CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
    Dielectrics PMD/IMD	TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB
    Low K Dielectrics	4MS ,OMCATS 
    High K Dielectrics	TAETO (Ta2O5 Precursor )
    TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
    TMA (Al2O3 Precursor)
    Metal Gate and Interconnect Metal	TDMAT (TiN Precursor )
    TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
    Low-Temp Nitride/Oxide	HCDS 
    Diffusion	POCl3
    
    供应半導體化學氣相沉積材料,專業研發及製造各種先進 CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化學氣相沉積材料。
    CVD Precursor(化学气相沉积材料)
    TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEB
    
    CVD Precursor(化學氣相沉積材料)
    TDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-K Material
    TEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等。
    

    http://vodaketechnology.cn.b2b168.com
    欢迎来到深圳市旺达康科技有限公司网站, 具体地址是广东省深圳市盐田区北山道149号倚山时代雅居B-4D,老板是杨观华。 主要经营深圳市旺达康科技有限公司成立于2003年12月,以先进的新材料为主导产业,在"电子级化学品"“溅射靶材”“真空镀膜材料”“高纯材料”“稀土材料”等多个产业领域。 单位注册资金单位注册资金人民币 500 - 1000 万元。 我公司在机械产品领域倾注了无限的热忱和激情,公司一直以客户为中心、以客户价值为目标的理念、以品质、服务来赢得市场,衷心希望能与社会各界合作,共创成功,共创辉煌,携手共创美好明天!