电子级六甲基二硅氮烷HMDS

电子级六甲基二硅氮烷HMDS
别名：六甲基二硅氮烷;六甲基二硅烷胺;六甲基二硅亚胺六甲基二硅氮烷
无色透明液体。易水解，放出NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成**基烷氧基硅烷或**基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成**基氯硅烷。可由**基氯硅烷与NH3反应来制取。
中文名：六甲基二硅氮烷
英文名：Hexamethyldisilazane
分子式：C6H19NSi2	
分子量：161.39
CAS号：999-97-3
EINECS号：213-668-5
用途：
    主要用于晶圆制造过程中光致刻蚀剂的粘结助剂。
CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
Dielectrics PMD/IMD	TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB
Low K Dielectrics	4MS ,OMCATS
High K Dielectrics	TAETO (Ta2O5 Precursor )
TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
TMA (Al2O3 Precursor)
Metal Gate and Interconnect Metal	TDMAT (TiN Precursor )
TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
Low-Temp Nitride/Oxide	HCDS
Diffusion	POCl3

供应半导体化学气相沉积材料，专业研发及制造各种先进CVD/ALD (Chemical Vapr Deposition /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料，TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEB Precursor，TDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-K Material，TEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等。